近日，頂立科技兩項自主研發成果通過權威機構評價，均被認定為整體技術達到國際領先水平。其中，“天然石墨高溫綠色提純技術與裝備”通過中國有色金屬工業協會科技成果評價，“第三代半導體用高均勻高致密TaC涂層石墨件制備技術及應用”通過湖南省技術產權交易所科技成果評價，標志著公司在先進材料制備領域的創新能力再獲行業高度認可。

突破行業瓶頸：天然石墨連續式高溫提純技術實現產業化

由頂立科技聯合五礦石墨、南昌大學、北京工業大學共同開發的天然石墨高溫綠色提純技術與裝備，針對傳統濕法提純工藝污染嚴重、間歇式高溫提純能耗高等行業痛點，成功研發出連續式高溫綠色提純技術與成套裝備。該項目突破了超長作業空間3000℃級熱場構建與保持、長時連續提純動態密封與高效排雜等關鍵技術瓶頸，實現了天然石墨高溫提純由間歇式到連續式的重大突破，在行業內首次實現了4N5以上天然石墨大規模連續化生產，為人造金剛石、新一代半導體4N5以上天然石墨穩定自主供應提供裝備技術保障。

連續式高溫石墨提純爐

打破技術壟斷：TaC涂層助力半導體產業鏈自主可控

在第三代半導體材料領域，頂立科技聯合湖南三安半導體、南昌大學開發的高均勻高致密TaC涂層石墨件制備技術及應用項目取得重大突破。針對石墨產品傳統TaC涂層工藝中存在的石墨基體純度提升難、高結合高致密涂層沉積難、高均勻涂層批次穩定控制難等技術難題，通過突破6N以上高純石墨基體提純工藝、高均勻高致密 TaC 涂層制備技術，形成了涵蓋“工藝-技術-裝備”的TaC涂層石墨件制備成套技術，實現了高性能TaC涂層石墨件的批量穩定制備，為保障國家第三代半導體產業鏈安全、構建雙循環新發展格局提供了關鍵支撐。

TaC涂層構件

化學氣相沉積爐

頂立科技此次兩項國際領先成果的取得，彰顯了公司在高端材料裝備領域的持續創新能力。未來，頂立科技將繼續聚焦先進材料制備領域，深化“產學研用”協同創新機制，為我國半導體、新能源、航空航天等戰略性新興產業提供更高水平的材料與裝備解決方案，助力實現產業鏈供應鏈自主可控。